哈默纳科偏压离子谐波CSG-45-160-2UH

使膜层不易脱落，镀层组织致密，针孔气泡少。哈默纳科偏压离子谐波CSG-45-160-2UH此外，由于离子镀的附着性好，使原来在蒸镀中不能匹配的基片材料和镀料，可以用离子镀完成。

   离子镀比真空镀的绕镀性好。离子镀时蒸发的镀料离子，要与气体分子多次碰撞才能到达基片，导致非面对蒸发源的基片上也有镀料离子沉积，从而使基片上的所有暴露表面均能被镀覆。同时，带正电荷的镀料离子会向加有负偏压的基片各处运动而沉积下来，这也是其绕镀性好的原因之一。

   离子镀的可镀材料相当广泛，可在金属或非金属表面上镀制金属或非金属材料，各种合金、化合物、某些合成材料、哈默纳科偏压离子谐波CSG-45-160-2UH半导体材料、高熔点材料均可镀覆。目前，离子镀技术已用于镀制耐磨膜、耐热膜、耐蚀膜、润滑膜和装饰膜等。

   用离子镀方法在切削工具表面镀氮化钦、碳化钦等硬质材料，可以提高*的耐用度。试验表明，在高速钢*上用离子镀镀氮化钦，*耐用度可提高1一2倍。镀碳化钦后，*耐用度提高3一8倍。而硬质合金*用离子镀镀上一层氮化钦或碳化钦，*耐用度可提高2一10倍。