哈默纳科刻蚀加工谐波CSF-17-80-2UH

离子束刻蚀加工

离子束刻蚀是通过用能量为0.5一SkeV的离子轰击工件，将工件材料原子从工件表面去除的工艺过程，是一撞击溅射过程。哈默纳科刻蚀加工谐波CSF-17-80-2UH为了避免入射离子与工件材料发生化学反应，必须用惰性元素的离子。氢气的原子序数高，价格便宜，所以通常用氢离子进行轰击刻蚀。由于离子直径很小〔约十分之一纳米)，可以认为离子刻蚀的过程是逐个原子剥离，刻蚀的分辨率可达微米级甚至是亚微米级。但刻蚀速度很低，剥离速度大约每秒一层到几十层原子。因此，离子刻蚀是一种原子尺度的切削加工，又称离子铣削。

   目前，离子束刻蚀在高精度加工、表面抛光、图形刻蚀、电镜试样制备、石英晶体振荡器以及各种传感器件的制作等方面应用较为广泛哈默纳科刻蚀加工谐波CSF-17-80-2UH。离子束刻蚀加工可达到很高的分辨率，适于刻蚀精细图形，实现高精度加工。离子束刻蚀加工小孔的优点是孔壁光滑，邻近区域不产生应力和损伤，而且能加工出任意形状的小孔。

   离子束刻蚀用于加工陀螺仪空气轴承和动压马达上的沟槽，分辨率高、精度高、重复性好，加工非球面透镜能达到其他方法不能达到的精度。